序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 准分子激光晶化设备 | 1台 | (1)准分子激光晶化设备主要用于将已去氢处理和清洗后的非晶硅膜层(a-Si)进行结晶化处理,并最终转变为多晶硅膜层(p-Si); (2)类型:Twin VYPER 1.3; (3)激光之间的能量差异:≤100mj@delivery (Up To 500M pulses)。 | 0730-244010020007-03 |
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