序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 无掩模光刻机(进口设备) | 1套 | 1、配备405nm激光光源,功率不小于3mW,寿命长于10000小时; *2、最小分辨率不低于300nm,至少支持300nm、600nm、900nm光学分辨率,要求软件直接控制各分辨率模块的切换; 3、配备650nm波长红外聚焦系统,保证光刻过程的实时聚焦; 4、配备分辨率不低于1μm的摄像模组,保证优于500nm的套刻精度; *5、至少支持4096阶的灰度光刻; 6、配备ECM灰度面型补偿功能,保证灰度光刻工艺的稳定性; 7、配备高精度的光栅尺,定位分辨率不低于2nm,保证较好的光刻精度,CD均匀性优于50nm,边缘粗糙度优于30nm,平台运动直线度优于1u@150mm; 8、最大曝光面积不小于150mm*150mm 9、支持基板尺寸范围至少包括5mm*5mm~160mm*160mm; 10、要求Z方向自动聚焦,支持衬底厚度至少在0~10mm; 11、项目管理软件需支持在线画图(如各种类型光栅,透镜等); 12、支持数据格式须包括DXF,GDSII,BMP,TIFF。 *13、支持免绘图模式曝光功能。 14.温控防尘系统:要求温度控制<±0.5℃,洁净等级class100; 15、需要在中国要有售后服务网点和同类型设备的实验中心提供技术支持。 | / |
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